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中微半导体取得形成涂层相关专利

  

中微半导体取得形成涂层相关专利

  金融界2025年8月8日消息,国家知识产权局信息显示,中微半导体设备(上海)股份有限公司取得一项名为“形成涂层的装置和方法、零部件和等离子体装置”的专利,授权公告号CN114678248B,申请日期为2020年12月。

  天眼查资料显示,中微半导体设备(上海)股份有限公司,成立于2004年,位于上海市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业PG电子官方平台入口注册资本62236.3735万人民币。通过天眼查大数据分析,中微半导体设备(上海)股份有限公司共对外投资了29家企业,参与招投标项目67次,财产线条,此外企业还拥有行政许可76个。

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