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2026年全球半导体报告:堆叠得更高卖得更高-伯恩斯坦

  

2026年全球半导体报告:堆叠得更高卖得更高-伯恩斯坦

  成为 AI 芯片性能提升核心路径,相关市场到 2030 年将扩张约 7 倍,渗透率达 38%,驱动设备、材料、测试全产业链爆发。

  报告核心结论:后摩尔时代,2.5D/3D 堆叠、混合键合、背面供电(BSPDN)、CMOS 键合阵列(CBA)四大技术重构行业格局,AI 算力需求是核心推手。HBM、CoWoS、NAND/DRAM CBA、逻辑 3DIC 成为增长主力,晶圆消耗量从 2025 年 50 万片 / 月增至 2030 年 350 万片 / 月。

  技术层面,HBM 向 HBM4/4E 迭代,堆叠层数升至 16-18 层,工艺从 TC-NCF、MR-MUF 转向无助焊剂 TCB,高端型号同步导入混合键合,2027 年 HBM TSV 产能达 75.8 万片 / 月。台积电 CoWoS 垄断 AI GPU 封装市场,2027 年产能至 19.7 万片 / 月,苹果 2026 年起 iPhone 改用 WMCM 封装,倒逼产能扩张;英特尔 EMIB-T 作为替代方案,依托大尺寸与地缘优势获谷歌、联发科评估,但良率仍是短板。

  逻辑芯片迈向混合键合 3DIC,AMD、英特尔、博通加速落地,台积电 SoIC 技术领先;BSPDN 成 2nm 及以下节点关键,可提升性能 8-10%、降功耗 15-20%,2030 年产能达 28.5 万片 / 月,英特尔率先量产,台积电、三星跟进。存储领域,NAND CBA 由长江存储、铠侠引领,密度提升 50%、功耗降 30%,2030 年渗透率 73.2%;DRAM 紧随其后,2028 年起导入 CBA+4F2 架构,芯片面积缩减 22-38%。

  产业链受益明确:设备端,迪思科受益研磨切割需求升级,Besi垄断混合键合(市占 91%),东京电子主导晶圆对晶圆键合;测试端,先进PG电子官网封装推高测试强度,2029 年测试市场增速升至 8%,爱德万测试独占英伟达 AI GPU 测试;材料与基板端,揖斐电掌控高端 ABF 基板,英伟达 Rubin 平台带动其价值翻倍。

  风险与趋势:良率瓶颈、供应链重构、地缘政策影响扩产节奏;长期看,堆叠技术将渗透绝大多数 DRAM、NAND 与先进逻辑芯片,后道设备增速超越前道,先进封装成为半导体行业新增长曲线。